太原四---碳-安徽谱纯 配置-高纯四---碳生产厂家

反应放热后，氟开始和碳化硅进行反应，通入等体积的干燥氮气以稀释氟气，使反应继续进行，生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝，然后慢慢地气化。四---碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造，四---碳生产厂家，以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-h2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45:1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。

按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下：因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。以活性炭与氟为原料经---反应制备。在装有活性炭的反应炉中，缓缓通入高浓氟气，太原四---碳，并通过加热器加热、供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。四---碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四---碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。