四---碳报价-安徽谱纯-重庆四---碳

对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-o2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。产品经除尘，碱洗除去hf、cof2、sif4、co2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏，四---碳公司，通过控制精馏温度，除去o2、n2、h2，四---碳价格，得到高纯cf4。因为四---碳和四---1硅都是共价化合物，然而碳氟键的键能远远大于硅氟键的键能，键长也是前者短得多，所以四---碳的热稳定性---。

四---碳的用途与作用 :

 四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四---碳在通常环境下是相对惰性的，在不通风的地方会引起窒息。在射频等离子体环境中，氟自由基表现为典型的三---碳或二---碳的形式。高纯度的四---碳能---的控制加工过程，使尺寸和形状得到---的控制，这不同于其他的卤烃遇到空气或氧气时不利于各种特殊的控制（如半导体各项---控制）。