




对于硅和二氧化硅体系,采用cf4-o2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,四---碳生产厂家,可以获得45:1的选择性,四---碳厂家,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四---碳的热稳定性---。化合物的热稳定性主要与化学键的键能及键长有关。零下198 °c时,四---碳具有单斜的结构,石家庄四---碳,晶格常数为a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源,用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。
产品经除尘,碱洗除去hf、cof2、sif4、co2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去o2、n2、h2,得到高纯cf4。因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子,它被紫外线辐---中时会分离。碳-氟键比较强,因此分离的可能性比较低。四---碳,又称为四氟甲1烷、freon-14及r 14,是一种卤代烃(化学式:cf4)。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲1烷、全---碳,也可以被视为一种无机化合物。


四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源,用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四---碳也一样,比如我们公司生产的钢瓶装四---碳在14mpa的气压下也是液态的,在正常---压下就是气态的,四---碳是有一定毒性的应该不能用作呼吸。产品经除尘,高纯四---碳,碱洗除去hf、cof2、sif4、co2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去o2、n2、h2,得到高纯cf4。
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