四---碳-安徽谱纯,安全----高纯四---碳

四---碳贮存注意事项：气瓶使用和检验遵照<气瓶安全监察规程>的规定。气瓶内的气体不能全部用尽，应该留不小于0.04mpa剩余压力。四---碳对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-h2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，四---碳批发，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四---碳是当前微电子工业中应用量高的等离子体蚀刻气体，高纯四---碳，被广泛应用在硅、氮化硅、磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻。除此之外，四---碳还能在电子电器表面清洗、激光、低温制冷、太阳能电池等领域有着应用。

四---碳是一种造成温室效应的气体。它非常稳定，可以长时间停留在---层中，是一种非常---的温室气体。四---碳的热稳定性---。化合物的热稳定性主要与化学键的键能及键长有关。零下198 °c时，四---碳具有单斜的结构，晶格常数为a = 8.597， b= 4.433， c = 8.381 (.10-1 nm)， β = 118.73° 。四---碳的密度比较高，可以填满地面空间范围，在不通风的地方会导致窒息。四---碳成品应存放在阴凉，四---碳，干燥，通风的库房内，严禁曝晒，远离热源。