四---碳报价-安徽谱纯,欢迎咨询-昆明四---碳

四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子，四---碳报价，它被紫外线辐---中时会分离。碳-氟键比较强，因此分离的可能性比较低。四---碳在900℃时，昆明四---碳，不与铜、镍、钨、钼反应，仅在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25℃及0.1mpa下其溶解度为0.0015％（重量比），然而与可燃性气体燃烧时，四---碳厂，会分解产生有毒---物。

对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-o2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。产品经除尘，碱洗除去hf、cof2、sif4、co2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏，通过控制精馏温度，除去o2、n2、h2，得到高纯cf4。因为四---碳和四---1硅都是共价化合物，然而碳氟键的键能远远大于硅氟键的键能，键长也是前者短得多，所以四---碳的热稳定性---。