工业四---碳厂家-东莞四---碳-安徽谱纯

---4碳与---1氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行，反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体，再通过冷冻，用硅胶除去气体中的水分经精馏而得成品。对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-h2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45:1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四---碳的热稳定性---。

高纯四---碳主要用于集成电路、半导体的等离子刻蚀领域，可用来蚀刻硅、二氧化硅、氮化硅等硅材料，是用量大的等离子蚀刻气体。此外，高纯四---碳还可用于印刷电路板清洁、电子元器件清洗、太阳能电池生产等领域。四---碳用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，四---碳价钱，也用作激---体，用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。四---碳用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术。生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝，然后慢慢地气化后，随后通过硅胶干燥塔得到产品。