




四---碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造,以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。四氯1化碳与---1氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分经精馏而得成品。含镁大于2%的合金不能用。在高温,工业四---碳价格,一些金属起加速cf4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下:因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。
四---碳的密度比较高,可以填满地面空间范围,在不通风的地方会导致窒息。四---碳成品应存放在阴凉,干燥,通风的库房内,严禁曝晒,远离热源。四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源,用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四---碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体,其高纯气及四---碳高纯气配高纯氧气的混合体,福州四---碳,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。
由碳与氟反应,四---碳供应商,或与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,都能生成四---碳。储存注意事项:储存于阴凉、通风的不燃气体库房。远离火种、热源。库温不宜超过30℃。应与易(可)燃物、氧化剂分开存放,切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,四---碳价钱,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分,经精馏而得成品。
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