




由碳与氟反应,或一氧1化碳与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,或二氟---甲1烷与---1氢反应,或---1碳与---银反应,或四氯1化碳与---1氢反应,都能生成四---1碳。吸入四氟1化碳的后果与浓度有关,包括头1痛、---、头昏眼花及心1血管系统的破坏(主要是---)。长时间接触会导致---的---破坏。对于硅和二氧化硅体系,采用cf4-o2反应离子刻蚀时,四---碳价格,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。
含镁大于2%的合金不能用。在高温,一些金属起加速cf4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下:因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。四---1碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体,其高纯气及四---1碳高纯气配高纯氧气的混合体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。将其通过装有氢1氧化钠溶液的洗气瓶除去四氟1化硅,随后通过硅胶和五氧1化二磷干燥塔得到终产品。由于化学稳定性极强,cf4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。
四---碳是一种卤代烃,化学式cf4。它既可以被视为一种卤代烃、全---碳,也可以被视为一种无机化合物。零下198 °c时,四---碳具有单斜的结构,晶格常数为a = 8.597, b= 4.433,工业四---碳, c = 8.381 (.10-1?nm), β = 118.73° 。高纯四---碳主要用于集成电路、半导体的等离子刻蚀领域,可用来蚀刻硅、二氧化硅、氮化硅等硅材料,安徽四---碳,是用量大的等离子蚀刻气体。此外,高纯四---碳还可用于印刷电路板清洁、电子元器件清洗、太阳能电池生产等领域。四---碳的溶氧性---,因此被科学家用于超---潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的---内,小白鼠仍可安全脱险。
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