四---碳是一种卤代烃，化学式cf4。它既可以被视为一种卤代烃、全---碳，高浓度四---碳，也可以被视为一种无机化合物。零下198 °c时，四---碳具有单斜的结构，晶格常数为a = 8.597， b= 4.433， c = 8.381 (.10-1?nm)， β = 118.73° 。高纯四---碳主要用于集成电路、半导体的等离子刻蚀领域，可用来蚀刻硅、二氧化硅、氮化硅等硅材料，四---碳公司，是用量大的等离子蚀刻气体。此外，高纯四---碳还可用于印刷电路板清洁、电子元器件清洗、太阳能电池生产等领域。四---碳的溶氧性---，因此被科学家用于超---潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功，在275米到366米的---内，小白鼠仍可安全脱险。
四---碳贮存注意事项：气瓶使用和检验遵照<气瓶安全监察规程>的规定。气瓶内的气体不能全部用尽，应该留不小于0.04mpa剩余压力。四---碳对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-h2反应离子刻蚀时，北京四---碳，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四---碳是当前微电子工业中应用量高的等离子体蚀刻气体，被广泛应用在硅、氮化硅、磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻。除此之外，四---碳还能在电子电器表面清洗、激光、低温制冷、太阳能电池等领域有着应用。
---4碳与---1氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行，反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体，四---碳批发，再通过冷冻，用硅胶除去气体中的水分经精馏而得成品。对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-h2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45:1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四---碳的热稳定性---。
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