四---碳气体-福州四---碳-谱纯气体,---齐全

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    2024-5-6

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由碳与氟反应,或一氧4化碳与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,四---碳价格,或二氟---甲4烷与氟4---反应,或四氯4化碳与---银反应,或四氯4化碳与---4氢反应,都能生成四---碳。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。对于硅和二氧化硅体系,采用cf4-o2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,四---碳气体,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。









预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉,置于镍盘中,使硅和碳化硅充分接触后,将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中,向反应管内通入氟气,福州四---碳,氟气先和单质硅反应。含镁大于2%的合金不能用。在高温,一些金属起加速cf4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下:因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。反应放热后,氟开始和碳化硅进行反应,通入等体积的干燥氮气以稀释氟气,使反应继续进行,生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝,然后慢慢地气化。









高纯四---碳是纯度在99.999%以上的四---碳产品,是一种无色无味气体。高纯四---碳不可燃烧,四---碳生产,在常温常压条件下化学性质稳定,在密闭容器中遇高热有危险,不溶于水,可溶于---、等部分溶剂。四---碳是当前微电子工业中应用量高的等离子体蚀刻气体,被广泛应用在硅、氮化硅、磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻。除此之外,四---碳还能在电子电器表面清洗、激光、低温制冷、太阳能电池等领域有着应用。由碳与氟反应,或与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,都能生成四---碳。



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