是微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体，高纯气高纯氧的混合气，高纯四---碳，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。温室气体，其造成温室效应的作用是---的数千倍。氟代烃的低层---中比较稳定，而在上层---中可被能量的紫外线分解。在范围内，高纯度四---碳应用于欧洲、亚太地区、北美、中东、非洲和南美洲等地区，受电子产业发展程度不同影响，合肥四---碳，对于高纯度四---碳的需求也不同，亚洲地区由于电子产业发展落后，四---碳批发，近几年电子电器行业处于快速发展状态，因此使得该地区的高纯度四---碳消费量持续---。
因为四---碳和四---圭都是共价化合物，然而碳氟键的键能远远大于硅氟键的键能，键长也是前者短得多，所以四---碳的热稳定性---。相对分子量88.00。在常温下，四---碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体，四---碳公司，挥发性较高，是稳定的有机化合物之一，不易溶于水。四---碳亦称全---碳、四氟甲1烷、全---碳，为非腐蚀性气体，所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜，铝等金属材料都可以使用。
---4碳与---1氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行，反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体，再通过冷冻，用硅胶除去气体中的水分经精馏而得成品。对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-h2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45:1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四---碳的热稳定性---。
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