四---碳的用途与作用 :
四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四---碳在通常环境下是相对惰性的，深圳四---碳，在不通风的地方会引起窒息。在射频等离子体环境中，氟自由基表现为典型的三---碳或二---碳的形式。高纯度的四---碳能---的控制加工过程，使尺寸和形状得到---的控制，这不同于其他的卤烃遇到空气或氧气时不利于各种特殊的控制（如半导体各项---控制）。
四---碳在900℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，四---碳多少钱，仅在碳弧温度下缓慢分解，高纯四---碳，微溶于水，在25℃及0.1mpa下其溶解度为0.0015％（重量比），然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒---物。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。在900℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，仅在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25℃及0.1mpa下其溶解度为0.0015%(重量比)，然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒---物。
四---1碳一般认为是惰性低毒物质，在高浓度下是窒息剂，其毒性不及四氯1化碳。四氯1化碳与氟1---的反应在填有氢1氧化铬的高温镍管中进行，反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体，再通过冷冻，用硅胶除去气体中的水分经精馏而得成品。预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉，置于镍盘中，使硅和碳化硅充分接触后，将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中，向反应管内通入氟气，氟气先和单质硅反应。
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